本发明涉及光电材料技术领域，尤其涉及一种消反射异质结复合涂层及其制备方法，首先以碱液各向异性刻蚀单晶硅，得到微米尺寸的锥形结构；然后，通过软模板印刷技术，将硅锥结构转移到表面附有过渡金属氧化物的刚性基底表面，得到锥形过渡金属氧化物；最后，通过原位氧化物法，在锥形过渡金属氧化物表面生长导电高分子纳米粒子，形成刚性基底为载体的过渡金属氧化物、导电高分子复合涂层。由于该复合涂层具有微纳多级结构，因而具有优异消反射性能，同时过渡金属氧化物和导电高分子组装的界面处形成p‑n异质结，赋予复合涂层高效分离光生电荷的能力，提高光电转化效率。本发明的复合涂层高效利用入射光，作为光电材料具有较高的应用前景。

本发明涉及光电材料技术领域，尤其涉及一种消反射异质结复合涂层及其制备方法，首先以碱液各向异性刻蚀单晶硅，得到微米尺寸的锥形结构；然后，通过软模板印刷技术，将硅锥结构转移到表面附有过渡金属氧化物的刚性基底表面，得到锥形过渡金属氧化物；最后，通过原位氧化物法，在锥形过渡金属氧化物表面生长导电高分子纳米粒子，形成刚性基底为载体的过渡金属氧化物、导电高分子复合涂层。由于该复合涂层具有微纳多级结构，因而具有优异消反射性能，同时过渡金属氧化物和导电高分子组装的界面处形成p‑n异质结，赋予复合涂层高效分离光生电荷的能力，提高光电转化效率。本发明的复合涂层高效利用入射光，作为光电材料具有较高的应用前景。