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一种消反射异质结复合涂层及其制备方法
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江苏阳光惠远知识产权运营有限公司
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本发明涉及光电材料技术领域,尤其涉及一种消反射异质结复合涂层及其制备方法,首先以碱液各向异性刻蚀单晶硅,得到微米尺寸的锥形结构;然后,通过软模板印刷技术,将硅锥结构转移到表面附有过渡金属氧化物的刚性基底表面,得到锥形过渡金属氧化物;最后,通过原位氧化物法,在锥形过渡金属氧化物表面生长导电高分子纳米粒子,形成刚性基底为载体的过渡金属氧化物、导电高分子复合涂层。由于该复合涂层具有微纳多级结构,因而具有优异消反射性能,同时过渡金属氧化物和导电高分子组装的界面处形成p‑n异质结,赋予复合涂层高效分离光生电荷的能力,提高光电转化效率。本发明的复合涂层高效利用入射光,作为光电材料具有较高的应用前景。
商品类型 专利 申请号 201610316877.0 所属行业 暂缺
专利类型 发明 法律状态 有权 IPC分类号 B01J21/06
交易方式 技术转让 专利状态 已授权 授权号
高新技术领域分类 新材料 信息有效期至 长久有效 授权日 2019-03-01
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